اثر شار اکسیژن بر روی ضریب شکست لایه اکسید آلومینیوم، لایه‌نشانی شده با روش تبخیر باریکه الکترونی

در این مقاله اثر میزان شار اکسیژن هنگام لایه نشانی بر روی ضریب شکست لایه اکسید آلومینیوم بررسی شده است. لایه های توسط تفنگ الکترونی بر روی زیرلایه شیشه ای در شارهای متفاوت اکسیژن انباشته شده اند. درجه حرارت زیرلایه در زمان لایه نشانی 250 درجه سلسیوس ثابت نگه داشته می شود. طیف عبوری نمونه ها با استفاده از اسپکتروفوتومتر در محدوده طول موجی اندازه گیری شده اند. سپس با استفاده از نقاط بهینه (بیشینه یا کمینه) منحنی عبور، ضریب شکست و ضریب خاموشی نمونه ها محاسبه می شوند. نتایج نشان می دهد که با کاهش شار اکسیژن، در حالی که نرخ تبخیر ثابت نگه داشته شده است، ضریب شکست لایه های کاهش می یابد. از طرف دیگر، کاهش شار اکسیژن باعث ایجاد مقدار کمی جذب در لایه می شود.

The effect of oxygen flow rate on refractive index of aluminum oxide film deposited by electron beam evaporation technique

The effects of oxygen flow rate on refractive index of aluminum oxide film have been investigated. The Al2O3 films are deposited by electron beam on glass substrate at different oxygen flow rates. The substrate was heated to reach and the temperature was constant during the thin film growth. The transmittance spectrum of samples was recorded in the wavelength 400800 nm. Then, using the maxima and minima of transmittance the refractive index and the extinction coefficient of samples were determined. It has been found that if we reduce the oxygen flow, while the evaporation rate is kept constant, the refractive index of Al2O3 films increases. On the other hand, reduced oxygen pressure causes the Al2O3 films to have some absorption.