>
Fa   |   Ar   |   En
   تاثیر دمای بازپخت بر تحرک پذیری و مشخصه های الکتریکی گیت دی الکتریک nio/pvc  
   
نویسنده حیاتی امیر
منبع پژوهش فيزيك ايران - 1400 - دوره : 21 - شماره : 2 - صفحه:429 -434
چکیده    در ترانزیستورهای اثر میدانی ضخامت گیت دی‌الکتریک اکسید سیلیکون 1 تا 2 نانومتر است. بنابراین کاهش ضخامت گیت به 1 نانومتر برای تولیدات آتی، سبب افزایش جریان تونلی و نشتی می‌شود. یکی از گزینه‌های مطلوب به عنوان گیت دی‌الکتریک،  نانو کامپوزیت‌های هیبریدی هستند که ثابت دی الکتریک بالا و گاف نواری پهنی داشته و در تماس با زیرلایه یا بستر سیلیکونی تعادل حرارتی دارند. در کار حاضر، نمونه‌های هیبریدیnio/pvc با غلظت‌های مختلف مادۀ آلی را به عنوان یک مادۀ ‌دی‌‌الکتریک مناسب به روش سل ژل سنتز کرده و تلاش کردیم به کمک تکنیک تجربی تحلیل حرارتی و مشتق آن، کاهش وزن نمونه‌ها را در مقابل حرارت بررسی کنیم. برای اندازه‌گیری تحرک‌پذیری، ثابت دی‌الکتریک و رسانندگی نمونه‌های مزبور در دماهای بازپخت مختلف با دستگاه a132gps، از محاسبۀ انرژی فعال‌سازی در نمودار لگاریتمی رسانندگی برحسب عکس دما استفاده کردیم. نتایج به دست آمده نشان می‌دهند که نمونۀ ‌nio/pvc:2 به جهت دارا بودن ثابت دی‌الکتریک بالاتر جریان نشتی کمتری دارد. رفتار همۀ ‌نمونه‌ها نسبت به افزایش دما تا دماهای 400 کلوین تقریباً یکسان است. تفاوت میان نمونه‌ها در دماهای بالاتر بروز می‌کند، به صورتی که  نمونۀ nio/pvc:2  در دماهای بالای 400 کلوین تحرک‌پذیری بالاتری دارند.
کلیدواژه نانوترانزیستور ماسفت، گیت دی‌الکتریک، نانوکامپوزیت هیبریدیnio:pvc، روش سل ژل
آدرس دانشگاه فنی و حرفه‌ای مازندران, دانشکده فنی و حرفه‌ای امام محمد باقر(ع), ایران
پست الکترونیکی amhaiati@tvu.ac.ir
 
   The effect of annealing temperature on the characterization and electrical characteristics of NiO/PVC gate dielectric ‎  
   
Authors Hayati A
Abstract    The thickness of silicon oxide gate dielectric for field effect transistors is 1 to 2 nm. Therefore, reducing the thickness of gate to 1 nm for future products will increase the tunelling and leakage currents. The hybrid nano composites are good candidates as dielectric gates with high dielectric constant, wide band gap, and in thermal equilibrium in contact with silicon substrate. In the present work, we synthesized NiO/PVC hybrids as suitable dielectric materials by solgel method and tried to test the loss weight of samples against heat by using the thermogravimetric analysis (TGA) and its derivative. To measure the mobility, dielectric constant and conductivity of the samples at different annealing temperatures, we used A132GPS to calculate the activation energy in the logarithmic diagram in terms of temperature inverse. Results show that NiO/PVC:2 has less leakage current due to higher dielectric constant. The behavior of these samples is roughly the same rise up to 400 K. Differences between samples occur at higher temperatures so that the NiO/PVC:2 sample has a higher mobility at temperatures above 400 K.
Keywords
 
 

Copyright 2023
Islamic World Science Citation Center
All Rights Reserved