|
|
تاثیر دما بر روی خواص نوری و توپوگرافی لایههای نازک zro2 تهیه شده به روش کند و پاش مغناطیسی بسامد رادیویی rf
|
|
|
|
|
نویسنده
|
شکوری رضا ,نحوی فرد الهه ,میری صادق ,طالبانی نگین
|
منبع
|
پژوهش فيزيك ايران - 1400 - دوره : 21 - شماره : 2 - صفحه:335 -341
|
چکیده
|
در این مقاله لایۀ نازک zro2با استفاده از روش کند و پاش مغناطیسی rf روی زیرلایه از جنس شیشه رشد داده شدند. در سه آزمایش جداگانه، سه نمونه لایۀ zro2در دماهای متفاوت تهیه شدند. سه دمای 25 درجۀ سانتیگراد (دمای آزمایشگاه)، دمای 150 درجۀ سانتیگراد و دمای 250 درجۀ سانتیگراد به ترتیب برای سه نمونه انتخاب شدند. به جز دما پارامترهای دیگر نظیر فشار، آهنگ رشد لایه، فاصلۀ زیرلایه تا هدف و بازۀ زمانی لایهنشانی برای هر سه نمونه یکسان بودند. خصوصیات اپتیکی و ریختشناسی نمونه ها مورد بررسی قرار گرفتند. ریختشناسی نمونه ها به وسیلۀ تصاویر میکروسکوپ نیروی اتمی afm و میزان شدت عبور نور با استفاده ازدستگاه طیف سنج نوری انجام گرفت. همچنین ثابت های اپتیکی لایه ها با استفاده از طیف عبور آنها محاسبه شدند. نتایج به دست آمده نشان می دهند اثر دما به خصوص بر ویژگی های اپتیکی لایه ها مشهود است. با افزایش دما از دمای محیط آزمایشگاه تا دمای250 درجۀ سانتیگراد، ضریب شکست از n=2/11 تا n=2/18 تغییر می کند. افزون بر این، افزایش دما باعث افزایش جذب لایه می شود ریختشناسی لایه ها نیز با دما به طور نسبتا محسوسی تغییر می کنند. متوسط زبری هر سه نمونه کمتر از نیم نانومتر است.
|
کلیدواژه
|
لایۀ نازک زیرکونیم دی اکسید، کند و پاش مغناطیسی، ریختشناسی لایه، ویژگیهای اپتیکی
|
آدرس
|
دانشگاه بینالمللی امام خمینی, دانشکده علوم, گروه فیزیک, ایران, دانشگاه بینالمللی امام خمینی, دانشکده علوم, گروه فیزیک, ایران, مرکز ملی علوم و فنون لیزر ایران, بخش لایه نشانی, ایران, دانشگاه بینالمللی امام خمینی, دانشکده علوم, گروه فیزیک, ایران
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
Study of the effect of temperature on optical and topographical properties of RF Magnetron Sputtered ZrO2 thin films
|
|
|
Authors
|
Shakouri R ,Nahvifard E ,Miri S ,Talebani N
|
Abstract
|
In this paper, ZrO2 thin films were grown on glass substrates using RF magnetic sputtering method. In three separate experiments, three samples of ZrO2 film were prepared at various temperatures. Three temperatures of 25 ̊C (laboratory temperature), 150 ̊C and 250 ̊C were selected for three samples, respectively. Except for temperature, other parameters such as pressure, film growth rate, substrate to target distance and deposition time were the same for all three samples. Optical properties and morphology of the samples were investigated. The morphology of the samples was determined by atomic force microscopy (AFM) images and the transmittance was measured using optical spectroscopy. The optical constants of the films were also calculated using their spectrum. The results show that the effect of temperature is especially evident on the optical properties of the films. As the temperature increases from the ambient temperature to 250 ̊C, the refractive index changes from n = 2.11 to n = 2.18. Moreover, increasing the temperature, causes the absorption of the layer to increase. The morphology of the films also changes slightly by changing temperature. The average roughness of all three samples is less than half a nanometer..
|
Keywords
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|