تعیین شرایط ساخت پوشش مزوسیلیس به روش خودآرایی القاشده با تبخیر بر روی شیشه

در میان اشکال مختلف مزوسیلیس که شامل نانو ذرات، پوشش‌ها و لایه‌های نازک، ساختارهای هسته-پوسته، الیاف‌‌ها و قطعات یک‌پارچه است، لایه‌های نازک مزوسیلیس دارای اهمیت و کاربرد زیادی در حوزه‌های مختلف نوری، الکترونیکی، انواع حسگرهای الکتروشیمیایی و سایر موارد هستند. به منظور بررسی فرآیند ساخت و تاثیر آن بر خواص پوشش، در این مطالعه، پوشش تک لایه مزوسیلیس به روش خودآرایی القاشده با تبخیر و با استفاده از هگزا دسیل تری آمونیوم برماید به عنوان عامل فعال سطحی ساخته شد. پس از آماده‌سازی محلول پایدار و پیرسازی آن به مدت‌زمان 7 روز، لایه‌نشانی انجام و به منظور خروج عامل فعال سطحی، نمونه به مدت 4 ساعت در دمای 450 درجه سانتی‌گراد کلسینه شد. برای بررسی درستی شرایط ساخت، پایداری سل و فرآیند خروج عامل فعال سطحی مطالعه شد و پوشش ساخته‌شده  به کمک آزمون‌های پراش اشعه ایکس کوچک-زاویه و میکروسکوپ الکترونی مورد مشخصه‌یابی قرار گرفت. نتایج آزمون‌ها حاکی از ایجاد یک پوشش پیوسته و بسیار صاف با ضخامت 500 نانومتر و دارای یک ساختار منظم با اندازه تخلخل حدود 3 نانومتر بود.

determining the conditions of mesoporous silica coatings synthesis via evaporation induced self-assembly on glass substrate

   among various forms of mesoporous silica materials, mesoporous coatings are one of the most favorable in various applications such as optics, electronics, different types of sensors, corrosion protection coatings, etc. to investigate the fabrication of process and its effect on coating properties, in this study, single-layer mesoporous silica coating fabricated by evaporation induced self-assembly method and cetrimonium bromide was used as the structure-directing agent. after preparing the stable solution and aging it for 7 days, the deposition was performed by the spin coating method and in order to remove the template, the sample was calcined for 4 hours at 450 ° c. to evaluate the fabrication conditions, the stability of the sol and surfactant removal process were studied. the sample was exhaustively characterized by low-angle x-ray diffraction and electron microscopy. the results of the tests showed a continuous and very smooth coating with a thickness of 500 nm and had an ordered structure with a pore size of 3 nm.