|
|
ساخت پوششهای مزوسیلیس به روش خودآرایی القاشده با تبخیر؛ مروری بر سازوکار، عوامل موثر و قابلیتها
|
|
|
|
|
نویسنده
|
حسن آقائی فاطمه ,محبی محمدمسعود
|
منبع
|
سراميك ايران - 1399 - شماره : 63 - صفحه:45 -61
|
چکیده
|
لایههای نازک مزوسیلیس دارای اهمیت و کاربرد زیادی در حوزههای مختلف هستند. کنترل شکل، اندازه و میزان تخلخلهای پوششها، نقش مهمی در عملکرد این پوشش در کاربردهای مختلف ایفا میکند. بهمنظور دستیابی به ویژگیهای موردنظر، به کارگیری روش های مناسب اهمیت بسیاری دارد. در میان روشهای مختلفی که برای ساخت پوششهای مزوسیلیس مورد استفاده قرار میگیرند، پرکاربردترین روش، روش خودآرایی القاشده با تبخیر است. امکان بهکارگیری انواع عوامل فعال سطحی برای ایجاد تخلخل، ساخت انواع پوشش با ویژگیهای مختلف، قابلیت اعمال پوشش بر انواع زیرلایه با شکل و جنسهای گوناگون (فلزی، سرامیکی و پلیمری) از جمله مزایای این روش هستند. مهمترین بخش روش خودآرایی القاشده با تبخیر، آمادهسازی محلول است و برای این کار نیاز است واکنشهای صورت گرفته، مراحل آن و نقش هر یک از اجزا بهخوبی شناخته شود. در این مقاله مروری به روش خودآرایی القاشده با تبخیر برای ساخت پوششهای مزوسیلیس، عوامل موثر بر آن و مهمترین قابلیتهای این روش پرداخته میشود.
|
کلیدواژه
|
مزوسیلیس، پوشش، تخلخل، خودآرایی
|
آدرس
|
دانشگاه بین المللی امام خمینی (ره), دانشکده فنی و مهندسی, گروه مهندسی و علم مواد, ایران, دانشگاه بین المللی امام خمینی (ره), دانشکده فنی و مهندسی, گروه مهندسی و علم مواد, ایران
|
پست الکترونیکی
|
m.mohebi@eng.ikiu.ac.ir
|
|
|
|
|
|
|
|
|
Evaporation Induced Self-Assembly Method for Mesoporous Silica Thin Films Synthesis: Mechanism, Affecting Parameters and Capabilities
|
|
|
Authors
|
Hassan-Aghaei Fateme ,Mohebi Mohamad Masoud
|
Abstract
|
|
Keywords
|
Mesoporous silica ,Coatings ,Porosity ,Self-Assembly.
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|