مطالعه توپوگرافی و خواص ساختاری لایه‌های آمورف کربن نیکل با توزیع‌های متفاوت فلزی

در این مقاله خواص ساختاری لایه های آمورف کربن نیکل ساخته شده از هدف های گرافیتی با مقادیر مختلف نیکل از 1.87 تا 4.64 درصد مورد مطالعه قرار می گیرند. توپوگرافی در لایه های انباشت شده در 1.78، 3.21 و 4.64 درصد دارای یک افت و خیزی حول یک نانومتر ولی در لایه های انباشت شده در 3.92 درصد دارای افت وخیزی حول 20 پیکومتر است. لایه های انباشت شده در 3.92 درصد دارای کمترین مقدار سد پتانسیل در حدود 00031/. الکترون ولت است. این لایه ها همچنین دارای کمترین مقدار اندازه عرضی نانوذرات در حدود 40 نانومتر هستند. انباشت لایه ها دارای یک فرآیند گذار غیرفلزفلز در 3.92 درصد است.