|
|
|
|
مجتمع سازی حافظه فلاش با استفاده از یک لایه پلی - سیلیکان در پروسه متداول 0.25 CMOS میکرومتر
|
|
|
|
|
|
|
|
نویسنده
|
شالچیان مجید ,عطاردی مجتبی
|
|
منبع
|
مهندسي برق و الكترونيك ايران - 1383 - دوره : 1 - شماره : 2 - صفحه:3 -9
|
|
|
|
|
|
|
|
آدرس
|
دانشگاه صنعتی شریف, پژوهشکده میکروالکترونیک ایران, , ایران, دانشگاه صنعتی شریف, پژوهشکده میکروالکترونیک ایران, ایران
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
Authors
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|