|
|
|
|
بررسی اثر فوتورسانش با لیزر اگزایمر و تحولات ساختاری، اپتیکی و شیمیایی در لایه های نازک ZnO
|
|
|
|
|
|
|
|
نویسنده
|
اسکندری فاطمه ,رنجبر مهدی ,کاملی پرویز ,سلامتی هادی
|
|
منبع
|
علوم و مهندسي سطح - 1393 - دوره : 10 - شماره : 22 - صفحه:1 -11
|
|
چکیده
|
در این پژوهش لایه های نازک اکسید روی آلاییده با آلومینیوم به غلظت های 0، 3، 6 و 12 درصد مولی آلومینیوم به روش سل ژل بر روی زیرلایه شیشه ساخته شد. لایه های آماده شده در دماهای °c500-300 به مدت یک ساعت در هوا پخت شدند. پراش پرتو ایکس (xrd) ساختار بلوری ورتسایت هگزاگونال برای لایه های بازپخت شده در دمای بالاتر از °c 400 نشان داد. سپس لایه ها تحت تابش پرتو لیزر (nm 248 = ?، krf) قرار گرفتند. تحول ساختار بلوری و مورفولوژی سطح با استفاده از xrd، میکروسکوپ الکترونی روبشی گسیل میدان (fe-sem) انجام شد. اندازه گیری زمان پاسخ جریان الکتریکی در طول تابش پرتو لیزر مقاومت پایا و گذرا وابسته به نوع نمونه را نشان می دهد. اثر انرژی لیزر بر رسانندگی فوتونی نیز بررسی شد و با استفاده از طیف فوتولومینسانس (pl) و طیف سنجی فوتوالکترون پرتو ایکس (xps) اثر رسانندگی فوتونی ناشی از پرتو لیزر مورد بررسی قرار گرفت.
|
|
کلیدواژه
|
ZnO آلاییده با Al ,سل ژل ,تابش لیزر اگزایمر ,رسانندگی فوتونی ,XRD ,FE-SEM
|
|
آدرس
|
دانشگاه صنعتی اصفهان, ایران, دانشگاه صنعتی اصفهان, ایران, دانشگاه صنعتی اصفهان, ایران, دانشگاه صنعتی اصفهان, ایران
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
Authors
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|