تاثیر آلایش فلوئور بر مقاومت به خوردگی لایه‌های نازک کربن شبه الماسی اعمال شده بر سطح آلیاژ کبالت-کروم-مولیبدن

در این مطالعه، اثرات لایه‌های نازک کربن شبه الماسی آلائیده شده با فلوئور (f-dlc) بر بهبود مقاومت به خوردگی بستره‌های کبالت- کروم- مولیبدن بررسی شد. برای این منظور، رسوب کربن شبه الماسی آلائیده شده با فلوئور روی بستر‌ه‌های کبالت- کروم- مولیبدن از طریق روش رسوب شیمیایی بخار تقویت شده به وسیله پلاسما با منبع فرکانس رادیویی انجام پذیرفت. از گازهای متان، آرگون و گاز cf4 برای پوشش‌دهی لایه‌های نازک کربن شبه الماسی آلائیده شده با فلوئور استفاده گردید. از لایه میانی tin جهت بهبود چسبندگی لایه‌های کربن شبه الماسی آلائیده شده با فلوئور روی بستره کبالت- کروم- مولیبدن استفاده شد. پارامترهای خوردگی نمونه‌ها با استفاده از آزمون‌های پلاریزاسیون و امپدانس الکتروشیمیایی تعیین شد. اندازه‌گیری‌های الکتروشیمیایی نشان داد که مقاومت به خوردگی بستره‌های کبالت- کروم- مولیبدن با اعمال پوشش‌های کربن شبه الماسی آلائیده شده با فلوئور تا حد زیادی افزایش می‌یابد، به‌طوری‌که پتانسیل خوردگی از 0.396- ولت به 0.057- و جریان خوردگی از 6^-10 × 5.55 به 7^-10× 1.288 میکرو آمپر کاهش پیدا کرد. طیف‌سنجی رامان، به‌عنوان یک روش غیرمخرب برای توصیف مواد مبتنی بر کربن، برای توصیف ساختاری فیلم‌های dlc و f-dlc استفاده گردید. نتایج غلظت بالاتر پیوند sp2 و ساختار گرافیتی بیشتری را در فیلم‌هایf-dlc نشان داد که می‌تواند منجر به استرس ذاتی کمتر در این فیلم‌ها در مقایسه با پوشش‌های dlc شود.

the effect of fluorine doping on the corrosion resistance of diamond-like carbon thinfilms applied on the surface of cobalt-chromium-molybdenum alloy

in this study, the effects of f-doped diamond-like carbon (f-dlc) thin films on corrosion resistance of the cobalt-chromiummolybdenum(cocrmo) alloy substrate were investigated. for this purpose, deposition of f-dlc thin film on cocrmosubstrates was carried out through radio frequency plasma-enhanced chemical vapor deposition (rf-pecvd) method.methane, argon and cf4 gases were used to deposition of f-dlc thin film. tin intermediate layer was used to improve theadhesion of f-dlc thin film on cocrmo substrate. corrosion behavior of the samples have been determined usingelectrochemical impedance and polarization tests. electrochemical measurements indicated that the corrosion resistance ofcocrmo substrates increases to a great extent by deposition of f-dlc thin film, so that the corrosion potential and corrosioncurrent decreased from -0.396 volt to -0.057volt and from 5.55×10-6 to 1.288×10-7 μa, respectively. raman spectroscopy, as anondestructive method to characterize carbon-based materials, was used for the structural characterization of dlc and f-dlcfilms. the results demonstrated that higher concentration of sp2 bonding and more graphitic structure in the f-dlc films,which could lead to lower intrinsic stress in these films, compared to those of the dlc coatings.