>
Fa   |   Ar   |   En
   تاثیر سیلیکون درشت‌‌دانه و نانوذره بر افزایش مقاومت به خشکی در نونهال‌های دارمازو (.quercus infectoria oliv)  
   
نویسنده تشکری شادی ,سیدی نسرین ,بانج شفیعی عباس ,عباس‌پور ناصر
منبع تحقيقات جنگل و صنوبر ايران - 1399 - دوره : 28 - شماره : 2 - صفحه:137 -148
چکیده    سیلیکون در افزایش مقاومت گیاهان به تنش خشکی، نقش بسزایی دارد. در پژوهش پیش‌رو، تاثیر سیلیکون‌‌ در شرایط تنش خشکی بر نونهال‌‌های دارمازو (quercus infectoria oliv.) بررسی شد. نونهال‌‌ها از نهالستان جنگلی اداره منابع طبیعی شهرستان مریوان به دانشگاه ارومیه منتقل شدند. سپس، آزمایشی در قالب طرح فاکتوریل بر پایه بلوک‌‌های کامل تصادفی در سه تکرار انجام گرفت. نونهال‌‌ها در ابتدا با دی‌اکسیدسیلیکون در دو نوع درشت‌‌دانه و نانوذره به‌صورت پیش‌‌تیمار با غلظت‌های مختلف (صفر، 50، 100 و 150 میلی‌گرم در لیتر) و برابر با ظرفیت زراعی به‌مدت 30 روز آبیاری شدند. سپس، تنش خشکی در سه سطح شامل قطع آبیاری (تنش شدید)، آبیاری براساس 50 درصد ظرفیت زراعی (تنش متوسط) و آبیاری براساس ظرفیت زراعی (شاهد) بر نونهال‌های پیش‌تیمارشده به‌مدت 21 روز اجرا شد. نتایج نشان داد که اثرات مستقل نوع سیلیکون بر سیلیس، تنش خشکی بر پرولین و غلظت سیلیکون بر مقدار پرولین و سیلیس نونهال‌ها معنی‌‌دار بودند، اما معنی‌داری اثرات متقابل تنش خشکی با نوع سیلیکون و نیز تنش خشکی با غلظت سیلیکون فقط بر مقدار پرولین تایید شد. هیچ‌یک از اثرات مستقل و متقابل عوامل موردبررسی بر پارامترهای رویشی و مقدار هیدرات‌‌های کربن معنی‌‌دار نبودند. اعمال تیمار سیلیکون فقط در شرایط تنش شدید خشکی، تاثیر معنی‌‌داری بر کاهش مقدار پرولین داشت، اما تفاوت معنی‌داری ازنظر استفاده از سیلیکون‌های درشت‌‌دانه و نانوذره مشاهده نشد. البته جذب سیلیس در حالت نانوذره بیشتر بود. به‌طورکلی در شرایط تنش شدید خشکی، اعمال سیلیکون‌های درشت‌‌دانه و نانوذره در غلظت 50 میلی‌‌گرم در لیتر توانست تحمل نونهال‌‌های دارمازو را در برابر تنش خشکی افزایش دهد.
کلیدواژه پرولین، تنش، سیلیس، هیدرات ‌‌کربن
آدرس دانشگاه ارومیه, دانشکده کشاورزی و منابع طبیعی, گروه جنگل‌داری, ایران, دانشگاه ارومیه, دانشکده کشاورزی و منابع طبیعی, گروه جنگل‌داری, ایران, دانشگاه ارومیه, دانشکده کشاورزی و منابع طبیعی, گروه جنگل‌داری, ایران, دانشگاه ارومیه, دانشکده علوم, گروه زیست‌‌شناسی, ایران
 
   The effect of coarse and nano particles of silica on increasing drought resistancein seedlings of gall oak (Quercus infectoria Oliv.)  
   
Authors Tashakori Shadi ,Seyyedi Nasrin ,Banej Shafiei Abbas ,Abbaspour Naser
Abstract    Silicon plays an important role in increasing plant resistance to droughtstress. In this study, the effect of silicon on droughtstress in seedlings of gall oak (Quercus infectoria Oliv.) was investigated. The seedlings were transferred from forest nursery of Marivan Natural Resources Office to Urmia University and were subject to an experiment as a factorial design based on complete randomized blocks in three replications. Seedlings were irrigated by two types of silicon (coarse and nanoparticles) in different concentrations (0, 50, 100 and 150 mg L1) pretreatment during a 30day period based on field capacity. Then, drought stress was imposed on three levels, which consisted of control (based on field capacity), moderate stress (based on 50% field capacity) and severe stress (water withholding) for 21 days. The results showed significant and main effects of silicon type on the amount of silica, drought stress on proline and silicon concentration on proline and silica. However, the interaction effects of drought stress with silicon type and drought stress with silicon concentration were significant only on the proline. None of independent and interaction effects of the fixed factors on growth parameters and the amount of carbohydrate were significant. Generally, silicone application had only a significant effect on severe drought stress in reducing proline content, but there no difference was observed between coarse and nanoparticles. The absorption of silica was obviously higher in the nanoparticle type. Finally, the application of silicon at a concentration of 50 mg L1 in severe drought stress conditions was concluded to enable increasing the tolerance of Q. infectoria seedlings against drought stress.
Keywords
 
 

Copyright 2023
Islamic World Science Citation Center
All Rights Reserved