|
|
بهینه سازی حذف سیپپروفلوکساسیین با فرآیند فوتوشبه فنتون به روش سطح پاسخ و تعیین سنتیک واکنش
|
|
|
|
|
نویسنده
|
اربابی محسن ,گلشنی نازیلا ,سدهی مرتضی
|
منبع
|
journal of shahrekord university of medical sciences - 1396 - دوره : 19 - شماره : 2 - صفحه:17 -31
|
چکیده
|
زمینه و هدف: ترکیبات دارویی در منابع آب آشامیدنی، علاوه بر تهدید سلامت محیط زیست باعث گسترش مقاومت باکتری ها در محیط های آبی میشوند. در این پژوهش، حذف سیپروفلوکساسین با فرآیند اکسیداسیون فتوشبه فنتون و بهینه سازی شرایط حذف به روش سطح پاسخ مورد بررسی قرار گرفت.روش بررسی: در این مطالعه تجربی در ph بهینه 3، اثر غلظت اولیه سیپروفلوکساسین (25050 میلی گرم بر لیتر)، زمان تماس (6010 دقیقه)، مقدار نیترات آهن (5/01/0 میلی مول) و مقدار h2o2 (121 میلی مول)، نسبت مولی واکنشگرها بر راندمان حذف آنتی بیوتیک با روش طراحی مرکب مرکزی و با استفاده از نرم افزار design expert مورد ارزیابی قرار گرفت. برای تحلیل آماری نتایج از آزمایشات anova و pvalue استفاده شد. غلظت سیپروفلوکساسین با استفاده از دستگاه hplc اندازهگیری گردید.یافته ها: نتایج نشان داد که کارآیی فرآیند با افزایش غلظت سیپروفلوکساسین، کاهش یافت و با افزایش مقدار نیترات آهن، پراکسید هیدروژن و زمان تماس افزایش یافت. در طرح مرکب مرکزی، حداکثر کارآیی حذف (8/85%) در 3=ph، غلظت سیپروفلوکساسین 5/88 میلی گرم در لیتر، نیترات آهن 35/0 میلی مول، 54/11 میلی مول پراکسید هیدروژن و زمان تابش 57 دقیقه و نسبت مولی h2o2 به آهن (iii) برابر ]35/0[ / ]54/11[ به دست آمد. بررسی روابط سینتیک نشان داد که فرآیند حدف سیپروفلوکساسین با (953/0=r2) از واکنش درجه دوم تبعیت کرد.نتیجه گیری: نتایج به دست آمده از این پژوهش نشان داد که فرآیند فتوشبه فنتون، روش موثری جهت حذف سیپروفلوکساسین از پساب است و با بهینه سازی عوامل موثر میتوان از این فرآیند جهت تصفیه فاضلاب دارای آنتی بیوتیک استفاده نمود.
|
کلیدواژه
|
فوتوشبه فنتون، طرح مرکب مرکزی، سیپروفلوکساسین، آنتی بیوتیک
|
آدرس
|
دانشگاه علوم پزشکی شهرکرد, گروه مهندسی بهداشت محیط, ایران, دانشگاه علوم پزشکی شهرکرد, گروه مهندسی بهداشت محیط, ایران, دانشگاه علوم پزشکی شهرکرد, گروه اپیدمیولوژی و آمار زیستی, ایران
|
پست الکترونیکی
|
sedehi56@gmail.com
|
|
|
|
|
|
|
|
|
Optimization removal of ciprofloxacin with photo fenton process using Response Surface
|
|
|
Authors
|
Arbabi Mohsen ,Golshani Nazela ,Sedehi Morteza
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|