>
Fa   |   Ar   |   En
   خصوصیات ساختاری و اپتیکی فیلم نیترید سیلیکو ن تولید شده بر رو ی سیلیکون توسط فرآیند کاشت یون با انرژی کم  
   
نویسنده درانیان داود ,آزادفر پروانه ,ساری امیرحسین
منبع پژوهش هاي نوين در رياضي - 1388 - دوره : 19 - شماره : 71 - صفحه:63 -72
  
کلیدواژه نیمه هادی ,کاشت یون ,پراش اشعه ایکس ,زبری سطح ,مقاومت سطحی
آدرس دانشگاه آزاد اسلامی واحد علوم و تحقیقات تهران, مرکز تحقیقات فیزیک پلاسما, ایران, دانشگاه آزاد اسلامی واحد کرج, دانشکده علوم, گروه فیزیک, ایران, دانشگاه آزاد اسلامی واحد علوم و تحقیقات تهران, مرکز تحقیقات فیزیک پلاسما, ایران
پست الکترونیکی doran@srbiau.ac.ir
 
     
   
Authors
  
 
 

Copyright 2023
Islamic World Science Citation Center
All Rights Reserved