|
|
بررسی سرعت حرکت لایهی جریان در یک دستگاه پلاسمای کانونی با انرژی 2.2 کیلوژول
|
|
|
|
|
نویسنده
|
تفرشی محمد امیر حمزه ,رستمیفرد داریوش ,نصیری علی
|
منبع
|
علوم، مهندسي و فناوري هسته اي - 1397 - شماره : 83 - صفحه:23 -29
|
چکیده
|
این مقاله پس از معرفی اجمالی دستگاه پلاسمای کانونی 1-mtpf، نمونههایی از دادههای تجربی آن را ارایه میدهد. دادهها نشان میدهند که میتوان با انتخاب فشار گاز و ولتاژ تخلیهی مناسب، شرایطی را فراهم کرد تا تنگش پلاسما در محدودهی خاصی از زمان اتفاق بیفتد. علاوه براین، تاثیر فشار گاز و ولتاژ تخلیه بر سرعت متوسط حرکت لایهی جریان نیز مورد بررسی قرار گرفت که نشان داد که در صورت استفاده از گاز آرگون، بیشینهی سرعت متوسط حرکت لایهی جریان در حدود 15cm µs است که میتواند با ترکیبهای مختلفی از فشار گاز و ولتاژ تخلیه به دست آید. با استفاده از مفهوم ضریب سرعت، سرعت حرکت لایهی جریان در لحظهی تنگش نیز مورد بررسی قرار گرفت و مشخص شد که در دو آزمایش مختلف با فشار گاز و ولتاژ تخلیهی متفاوت، یکسان بودن زمان تنگش حدوداً بیانگر یکسان بودن سرعت متوسط حرکت لایهی جریان است.
|
کلیدواژه
|
پلاسمای کانونی، زمان تنگش، لایهی جریان، ضریب سرعت
|
آدرس
|
سازمان انرژی اتمی ایران, پژوهشگاه علوم و فنون هستهای, پژوهشکدهی پلاسما و گداخت هستهای, ایران, سازمان انرژی اتمی ایران, پژوهشگاه علوم و فنون هستهای, پژوهشکدهی پلاسما و گداخت هستهای, ایران, سازمان انرژی اتمی ایران, پژوهشگاه علوم و فنون هستهای, پژوهشکدهی پلاسما و گداخت هستهای, ایران
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
Study of the Current Sheath Velocity in a 2.2 kJ Plasma Focus Device
|
|
|
Authors
|
Tafreshi M. A ,Rostamifard D ,Nasiri A
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|