بررسی سینتیک حذف پارانیتروفنل توسط فرایندUV /S2O8 2- در یک فتوراکتور جریان پیوستة آنولار
|
|
|
|
|
|
|
|
نویسنده
|
بهنژادی محمدعلی ,ظفری غازانی سید حامد
|
|
منبع
|
شيمي و مهندسي شيمي ايران - 1393 - دوره : 33 - شماره : 3 - صفحه:1 -6
|
|
چکیده
|
در این کار پژوهشی از یک فتوراکتور پیوسته آنولار مجهز به یک لامپ uv-c در مرکز فتوراکتور با طول موج نشری nm254، برای حذف یک آلایندة مدل (پارانیتروفنل) با استفاده از فرایند-uv/s2o82 استفاده شده است. در این پژوهش، برای اولین بار یک معادلة سینتیکی جامع برای فرایند-uv/s2o82 ارایه شده است. ثابت سرعت واقعی واکنش رادیکالهای -s2o82 با مولکولهای پارانیتروفنل با مدلسازی سینتیکی برابر با 105 × 1/1 بهدست آمده است. مدل به دست آمده از نتیجههای بررسی سینتیک فرایند بر مبنای مکانیسم داده شده، به خوبی میتواند غلظت پارانیتروفنل را در این فرایند در شرایط عملیاتی گوناگون همچون غلظت اکسید کننده، شدت جریان حجمی سیال و طول فتوراکتور پیوسته تعیین کند.
|
|
کلیدواژه
|
مدل سازی سینتیکی ,UV/S2O82- ,فتوراکتور جریان پیوسته آنولار ,پارانیتروفنل
|
|
آدرس
|
دانشگاه آزاد اسلامی واحد تبریز, تبریز، دانشگاه آزاد اسلامی، واحد تبریز، گروه شیمی, ایران, دانشگاه آزاد اسلامی واحد تبریز, تبریز، دانشگاه آزاد اسلامی، واحد تبریز، گروه شیمی, ایران
|
|
پست الکترونیکی
|
seyyed.hamed.zafari@gmail.com
|
|
|
|
|
|
|