بهینه‌سازی پارامترهای موثر در فرایند تلفیقی اکسایش و اکسایش نوری برای حذف اکسی‌تتراسایکلین توسط نانو ذره های آهن

با توجه به مشکل‌ساز بودن دفع مستقیم پساب دارای آنتی‌بیوتیک‌ها به محیط زیست و بروز مشکل های جدی در محیط همانند مقاومت ژنتیکی، تصفیه پساب این صنایع از اهمیت ویژه ای برخوردار است. در این پژوهش افزون بر بررسی تصفیه‌پذیری یکی از پرمصرف‌ترین آنتی‌بیوتیک‌ها، اکسی تتراسایکلین توسط نانو ذره های آهن، قابلیت اکسایش و فتوکاتالیستی لایه آهن اکسید تشکیل شده بر سطح نانو ذره های آهن نیز بررسی شد. ابتدا پارامترهای موثر در حذف اکسی‌تتراسایکلین توسط فرایند تلفیقی اکسایش و اکسایش نوری بررسی و بهینه شدند که طبق نتیجه های به دست آمده در شرایط بهینه، از نانو ذره های آهن با غلظت mg/l 1000 برای حذف mg/l 155 اکسی‌تتراسایکلین در ph برابر 3، تابش uv با توان w 200 در مدت زمان 5 /6 ساعت استفاده شد که مقدارهای حذف در طول موج‌های 290 و 348 نانومتر، toc و cod به ترتیب 87، 95، 85 و 89 درصد به دست آمدند. پس از گذشت 14 ساعت، میزان همه این پارامترها بیانگر تجزیه کامل اکسی تتراسایکلین بود. همچنین طبق نتیجه آنالیز xrd ، feo و feooh ، لایه اکسید تشکیل شده بر سطح نانو ذره ها شناسایی شده و اثرهای مثبت فتوکاتالیستی آن در فرایند حذف توسط آزمایش‌های شاهد مورد بررسی قرار گرفت. بررسی اثر جداگانه هوادهی، پرتودهی فرابنفش و اکسایش توسط نانو ذره های آهن در تاریکی و مقایسه نتیجه ها با شرایط تلفیقی (نانو ذره های آهن در مجاورت تابش فرابنفش) نشان دهنده ی برتری فرایند تلفیقی در فرایند حذف بود.