بررسی ویژگی های ساختاری و مغناطیسی نانوساختار سه لایه ای fe/al/fe بر روی سیلیسیوم
|
|
|
|
|
|
|
|
نویسنده
|
نظام دوست جعفر
|
|
منبع
|
شيمي و مهندسي شيمي ايران - 1397 - دوره : 37 - شماره : 4 - صفحه:1 -9
|
|
چکیده
|
در این پژوهش، نتیجه های مربوط به تغییرهای ساختاری و ویژگی های مغناطیسی چند لایه ای fe/al/fe رشد یافته بر روی زیرلایه ی si(100) مورد مطالعه قرار گرفت. نانو لایه های نازک به روش کندوپاش مگنترونی rf لایه نشانی شدند به طوری که ضخامت هر لایه nm30 می‌باشد. نتیجه های تحلیل xrd نشان داد جهت ترجیهی سه لایه ای fe/al/fe در راستای (200) می باشد. در ادامه به منظور بررسی رفتار گرمایی در دماهای بالا در خلا دستگاه ht – xrd بین دماهای 26 تا °c 800 به مدت 180 دقیقه مورد استفاده قرار گرفت. در پایان برای بررسی ویژگی های ریخت‌شناسی سطح و اندازه ذره ها از تحلیل afm و برای بررسی ویژگی های مغناطیسی از تحلیل mfm و agfm استفاده شد
|
|
کلیدواژه
|
سه لایه‌ای fe/al/fe، فیلم نازک، پرتو ایکس در دماهای بالا
|
|
آدرس
|
جهاد دانشگاهی استان مرکزی, ایران
|
|
پست الکترونیکی
|
nezamdoost@acecr.ac.ir
|
|
|
|
|
|
|