اثر دمای بستر، نرخ پاشش، حجم محلول پاشش و غلظت نیکل بر ویژگی ساختاری و نوری لایه‌های نازک اکسید نیکل تهیه شده به روش افشانه گرمایی

لایه‌های نازک اکسید نیکل با موفقیت در دماهای بستر 440، 460، 480 و 500 درجه سانتی‌گراد، نرخ های پاشش 1، 2/5، 5، و 7/5 میلی‌لیتر بر دقیقه، حجم‌های محلول پاشش 50، 100، 150 و 200 میلی‌لیتر و غلظت های نیکل در محلول پاشش 5، 10، 15 و 20 درصد اتمی بر بسترهای شیشه ای با استفاده از پیش ماده کلرید نیکل شش آبه (nicl2.6h2o) به روش افشانه گرمایی لایه نشانی شدند. ویژگی های ساختاری و نوری لایه های نازک بررسی شدند. آنها ماهیتی بس بلوری با ساختار تک فاز مکعبی nio و با قله های مربوط به صفحات (111)، (200) و (220) با جهت گیری ترجیحی در راستای (111) را نشان می دهند. ریختار لایه‌های نازک شامل دانه‌های کروی در کل سطح و زبری متوسط ​​در گستره 28/71تا 105/63 نانومتر تابع شرایط لایه نشانی است. گاف نوری و انرژی اورباخ نمونه ها به ترتیب در گسترهای 2/55 تا ev 49/3 و 0/41 تا ev  0/55 برآورد شدند.      

effect of substrate temperatures, spray rates, solution volumes, and nickel concentration on structural and optical properties of nio thin films prepared by spray pyrolysis

nickel oxide thin films were successfully percipitated at different substrate temperatures (440, 460, 480, and 500 oc), spray rates (1, 2.5, 5, and 7.5 ml/min), solution volumes (50, 100, 150, and 200 ml), and nickel concentration (5, 10, 15, and 20 at.%) glass substrates using nicl2.6h2o as precursor and the spray pyrolysis technique. the structural and  optical properties of the thin films were characterized. they show a polycrystalline nature with a cubic structure of single-phase nio and peaks related to (111), (200), and (220) with a preferential orientation along (111). the morphology of the nio thin films resembles that spherical grains on the entire surface, with an average roughness ranging from 28.71 to 105.63 nm, depending on the deposition conditions. the range of the optical gap and urbach energy were measured to be 2.55 to 3.49 ev and 0.41 to 0.55 ev, respectively.